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高溫粉體合成爐
高溫粉體合成爐
產品描述：
高溫粉體合成爐主要用于半導體領域的陶瓷粉體的合成。
應用范圍：
高純碳化硅、碳化硼、碳化鋯、氮化硅、氮化硼、氮化鋁等粉體的制備。

高溫粉體合成爐技術特征

高溫粉體合成爐產品規格

型號/參數HPSF-050515HPSF-060615HPSF-060618HPSF-080825
工作區尺寸
W×H×L（mm）		500×500×1500600×600×1500600×600×1800800×800×2500
最高溫度（℃）1800~24001800~24001800~24001800~2400
溫度均勻性（℃）±5~±10±5~±10±5~±10±5~±10
極限真空度（Pa）1-1001-1001-1001-100
最高壓力（MPa）＜0.11/2＜0.11/2＜0.11/2＜0.11/2

以上參數可根據工藝要求進行調整，不作為驗收依據，具體以技術方案和協議為準。


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